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真(zhēn)空箱式氣氛爐

真空氣氛箱式爐廣泛應用於金屬熱處理、鋰電(diàn)池材料、半導體及電子材料(liào)研發等領域。

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  • 產品(pǐn)描述
  • 真空氣氛箱式爐是一種可在(zài)真空或可控氣氛環境(jìng)下進行高溫(wēn)熱處(chù)理的精(jīng)密實驗設備。該設備采(cǎi)用高(gāo)潔淨度的石英腔體(tǐ),配合精密的溫度控製係統與氣(qì)體氛圍調控係統,能夠滿足對材料(liào)潔淨度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用於金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子(zǐ)材料研發等領域。

     

    係統參數:

    產品名稱

    真空箱式氣氛爐

    產品型號

    ZKX-300F

    最高溫(wēn)度

    1100℃

    工作溫度

    ≤1000℃

    爐(lú)膛尺寸

    Φ316/φ300*550mm

    恒溫區

    Φ300*250mm

    承重範圍

    ≤3Kg

    爐膽材質

    石(shí)英(yīng)

    加熱元件

    電阻絲

    測溫元件

    熱電偶K偶(ǒu)

    升溫速率

    0-1000℃≤10℃/min;1000℃~1100℃≤5℃/min

    控溫方式

    智能化30段可編程控製(PID獨立控製調節(jiē))

    控溫精度

    ±1℃

    真空度

    真空度:-0.1MPa(機械泵4L)

    水冷製冷(lěng)量

    1.5w

    水冷容積

    6L

    額定電壓

    380V

    額定功率

    12KW

    爐體尺寸

    956*800*1700mm(深*寬*高)

    標(biāo)準(zhǔn)配置

    氣路總成一套(含真空(kōng)壓力表),石英膽一個,隔熱堵一個,鉤子一把,手套一副

    選配

    如需提(tí)升真空度,可更換真空泵或升級為高真(zhēn)空機組

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